La compañía Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) ha presentado una solicitud de patente para un equipo de litografía crucial en la fabricación de semiconductores, marcando un avance significativo hacia la autosuficiencia de China en esta vital industria. Este anuncio se hizo el 20 de septiembre de 2024, y es un indicativo de cómo Pekín está adaptándose a las sanciones estadounidenses que buscan limitar su desarrollo tecnológico.
La patente, solicitada en marzo de 2023, abarca “generadores de radiación ultravioleta extrema (EUV) y equipos de litografía”. Aunque el documento aún está bajo revisión por la Administración Nacional de Propiedad Intelectual de China, su difusión resalta los esfuerzos de SMEE por avanzar en la tecnología EUV, un área considerada un punto débil en la producción de semiconductores del país.
La tecnología EUV es esencial para la fabricación masiva de chips de menos de 7 nanómetros, los cuales son fundamentales para el desarrollo de tecnologías emergentes, como la inteligencia artificial. Los escáneres de EUV ofrecen rendimientos de producción superiores, aumentando el porcentaje de semiconductores no defectuosos.
Actualmente, la empresa neerlandesa ASML monopoliza el mercado de equipos de litografía EUV, pero desde 2019, la exportación de sus productos a China ha sido prohibida por las sanciones impuestas por Estados Unidos. Con la aparición de tecnología de litografía desarrollada localmente, China está reduciendo la brecha que la separa de líderes en la industria, lo que plantea preocupaciones para las autoridades de EE. UU. y otros países que han tratado de frenar este avance.
Este desarrollo no solo representa un hito para la autosuficiencia tecnológica de China, sino que también podría reconfigurar el panorama global de la producción de semiconductores, un sector clave en la economía moderna.
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